Vaflinis susceptorius

Trumpas aprašymas:

„Semicera“ siūlo didelio našumo Wafer susceptorius, optimizuotus Si Epitaxy ir SiC Epitaxy procesams. „Semicera“ produktai yra plačiai naudojami MOCVD susceptoriuose ir statinėse, kad būtų užtikrintas monokristalinio silicio gamybos stabilumas ir didelis tikslumas.

Atsiųskite mums el

Produkto detalė

Produkto etiketės

Kodėl yra silicio karbido danga?

Vaflinis susceptoriusyra nepakeičiamas pagrindinis epitaksijos proceso komponentas. Semicera siūlo puikius sprendimusSi EpitaksijairSiC epitaksijaprocesus preciziškai projektuojant ir gaminant. Mūsų Wafer Susceptor užtikrina tolygų šilumos pasiskirstymą epitaksijos proceso metu ir pagerina monokristalinio silicio (monokristalinio silicio) sluoksnio nusėdimo kokybę. Jis gerai veikia įvairių tipųMOCVD susceptoriaiirStatinės susceptoriaiir tinka įvairiems puslaidininkių gamybos procesams.

SemiceraVaflėSusceptorius yra pagamintas iš labai stiprių medžiagų, turinčių puikų atsparumą aukštai temperatūrai ir atsparumą korozijai, ir gali išlikti stabilus ilgą laiką net sudėtingomis epitaksijos proceso sąlygomis. Ar Si Epitaxy, ar SiC Epitaxy procesuose, Semicera's Susceptor gali užtikrinti tikslią temperatūros valdymo palaikymą, kad užtikrintų kokybišką plokštelių nuoseklumą epitaksijos augimo metu.

Be to, „Semicera's Wafer Susceptor“ taip pat yra tiksliai apdorotas, kad būtų pritaikytas įvairiems įrangos ir specifikacijų reikalavimams, ypač MOCVD susceptor ir barrel Susceptor. Puikiai parinkdami medžiagas ir valdydami procesą, mūsų gaminiai ne tik pagerina gamybos efektyvumą, bet ir žymiai sumažina defektų skaičių bei energijos sąnaudas procese.

Itin reikliems epitaksijos procesams puslaidininkių pramonėje Semikera's Wafer Susceptor yra idealus pasirinkimas. Nesvarbu, ar tai yra moksliniai tyrimai ir plėtra, ar masinė gamyba, mūsų Wafer Susceptor gali padėti klientams pasiekti didesnį patikimumą ir geresnę kristalų struktūrą Si Epitaxy ir SiC Epitaxy procesuose.