Dažų gamyboje naudojamos žaliavos paprastai yra grafitas, naftos koksas ir mikrokristalinis akmens rašalas.Kuo didesnis grafito grynumas, tuo didesnė jo naudojimo vertė.Grafito valymo metodus galima suskirstyti į fizikinius ir cheminius.Fiziniai valymo metodai apima flotaciją ir gryninimą aukštoje temperatūroje, o cheminiai – rūgšties ir bazės metodą, vandenilio fluorido rūgšties metodą ir skrudinimo chloridu metodą.
Be to, taikant aukštos temperatūros gryninimo metodą, galima panaudoti aukštą lydymosi temperatūrą (3773K) ir grafito virimo temperatūrą, kad būtų pasiektas 4N5 ir didesnis grynumas, o tai reiškia, kad išgaruoja ir išsiskiria žemos virimo temperatūros priemaišos, kad būtų pasiektas tikslas. valymas [6].Pagrindinė didelio grynumo tonerio technologija yra nešvarumų pėdsakų pašalinimas.Kartu su cheminio valymo ir gryninimo aukštoje temperatūroje ypatybėmis naudojamas unikalus segmentuotas kompozicinis aukštos temperatūros termocheminis valymo procesas, kad būtų išgrynintos didelio grynumo tonerio medžiagos, o produkto grynumas gali būti didesnis nei 6 N.
Produkto našumas ir savybės:
1, produkto grynumas≥99,9999 % (6N);
2, didelio grynumo anglies miltelių stabilumas, didelis grafitizacijos laipsnis, mažiau priemaišų;
3, detalumą ir tipą galima pritaikyti pagal vartotoją.
Pagrindinės produkto naudojimo paskirtys:
■Didelio grynumo SiC miltelių ir kitų kietosios fazės sintetinių karbidų medžiagų sintezė
■Auginkite deimantus
■Naujos šilumos laidumo medžiagos elektroniniams gaminiams
■Aukščiausios klasės ličio baterijos katodo medžiaga
■Tauriųjų metalų junginiai taip pat yra žaliavos
-
Silicio karbidu dengta epitaksinio reaktoriaus statinė
-
Aukštai temperatūrai ir korozijai atsparus LED Si...
-
Statinės reaktorius, skirtas skystosios fazės epitaksijai
-
Antioksidacinis didelio grynumo SiC dengtas MOCVD padėklas
-
Puslaidininkio silicio pagrindu sukurta GaN epitaksija
-
Pusiau keraminis statinės reaktorius: „Semicondu“ įgalinimas...