SiC dengtas puslaidininkinis epitaksinis reaktorius, skirtas epitaksinio reaktoriaus kamerai

Trumpas aprašymas:

Semicera siūlo platų susceptorių ir grafito komponentų asortimentą, skirtą įvairiems epitaksiniams reaktoriams.

Strategiškai bendradarbiaudama su pirmaujančiais pramonės originalios įrangos gamintojais, plačią medžiagų patirtį ir pažangias gamybos galimybes, Semicera pristato pritaikytus dizainus, atitinkančius konkrečius jūsų programos reikalavimus.Mūsų įsipareigojimas siekti meistriškumo užtikrina, kad gausite optimalius sprendimus savo epitaksinio reaktoriaus poreikiams tenkinti.

 

Produkto detalė

Produkto etiketės

Mūsų įmonė teikiaSiC dangagrafito, keramikos ir kitų medžiagų paviršiaus apdorojimo paslaugos CVD metodu, kad specialios dujos, kuriose yra anglies ir silicio, galėtų reaguoti aukštoje temperatūroje ir susidarytų labai grynos sic molekulės, kurios gali būti nusodinamos ant dengtų medžiagų paviršiaus, kad susidarytųSiC apsauginis sluoksnisepitaksijos statinės tipo hi pnotic.

 

Pagrindinės funkcijos:

1 .Aukšto grynumo SiC dengtas grafitas

2. Superior atsparumas karščiui ir šiluminis vienodumas

3. PuikuPadengtas SiC kristalaislygiam paviršiui

4. Didelis patvarumas nuo cheminio valymo

 
Statinės susceptorius (6)

Pagrindinės specifikacijosCVD-SIC danga

SiC-CVD savybės

Kristalinė struktūra FCC β fazė
Tankis g/cm³ 3.21
Kietumas Vickerso kietumas 2500
Grūdų dydis μm 2~10
Cheminis grynumas % 99.99995
Šilumos talpa J·kg-1 ·K-1 640
Sublimacijos temperatūra 2700
Feleksualinė jėga MPa (RT 4 taškai) 415
Youngo modulis Gpa (4 pt lenkimas, 1300 ℃) 430
Šiluminė plėtra (CTE) 10-6K-1 4.5
Šilumos laidumas (W/mK) 300

 

 
2--cvd-sic-purity---99-99995-_60366
5----sic-crystal_242127
Semicera Darbo vieta
Semicera darbo vieta 2
Įrangos mašina
CNN apdorojimas, cheminis valymas, CVD dengimas
Mūsų paslauga

  • Ankstesnis:
  • Kitas: